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Sensitive Skin Calming & Repairing Patch Mask

Produktinformationen "Sensitive Skin Calming & Repairing Patch Mask"

Beruhigende und ausgleichende Auflegemaske für das Gesicht. Die wirksame Kombination aus Hyaluronsäure, Sakura Kirschblüten- und Aprikosenextrakt sowie Cannabisöl beruhigt die Haut und wirkt Entzündungen und Rötungen entgegen. Die Maske aus feinen Naturfasern legt sich sanft wie eine zweite Haut auf das Gesicht. Die Haut wird intensiv mit Feuchtigkeit versorgt und erhält ein ebenmässiges, strahlendes Aussehen.
Das Pflegekonzept SENSITIVE SKIN basiert auf einer innovativen Kombination aus pflanzlichen Ölen, Cannabidiol (CBD) und mikrobiotischen Zellkulturen aus Algen. Diese spezifische Zusammensetzung zielt darauf ab, Entzündungsindikatoren zu reduzieren und die Hautgesundheit zu fördern. Durch die Unterstützung des Aufbaus der Hautflora und der Hydrolipidbarriere wird die Haut desensibilisiert und das Immunsystem der Haut gestärkt.

Inhaltsstoffe

Niacinamide • Aminosäure Glycin • Sakura Kirschblütenextrakte • Vitamin C • Japanischer Aprikosenextrakt • Cannabisöl • Hyaluronsäure

Anwendung
Falten Sie die Maske auseinander und legen Sie diese auf das Gesicht auf. Streichen Sie die Maske gleichmässig auf das Gesicht auf, so dass sich darunter keine Luftblasen befinden. Nach 15 Minuten wieder abnehmen und den Produktüberschuss einmassieren.
INCI
Aqua (Water), Propylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Xylitol, Glucose, Propanediol, Caprylhydroxamic Acid, Xanthan Gum, Hydroxyacethophenone, Hydroxyethylcellulose, Saccharomyceslysate, Valine, Threonine, Glutamic Acid, Glycine, Disodium Succinate, Ethylhexylglycerin, Prunus Lannesiana Flower Extract, Ascorbic Acid, Manic Acid, Prunus Mume Fruit Extract, Citric Acid, Potassium Hydroxide, Butylene Glycol, Cannabis Sativa Seed oil, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Fullerenes PVP, Parfum (Fragrance), Phenoxyethanol, CI 16255

Art.-Nr.
1120922

EAN
7640143817405

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