Impure Skin Cleansing Rinse Off Mask
CHF 47.50
Sofort versandfertig
- Gratis Versand ab CHF 60 & schnelle Lieferung
- Tipps und Ratschläge durch Fachpersonal
Produktinformationen "Impure Skin Cleansing Rinse Off Mask"
Diese Maske ist perfekt für alle, die unter öliger und unreiner Haut leiden. Die Poren werden verfeinert, und die Haut bekommt ein mattes Finish. Zusätzlich wirkt die Maske Entzündungen entgegen und minimiert negative Bakterien auf der Haut. Sie hat ausserdem einen beruhigenden und ausgleichenden Effekt. Durch ihre Zusammensetzung aus Extrakt aus der Rinde afrikanischer Bäume, pflanzlicher Säure aus Olivenblättern, Kaolin und Zink Oxide absorbiert sie überschüssige Talgfluss-Produktion und hat einen "Zugsalben"-Effekt.
Die IMPURE SKIN Pflegeserie besteht aus dem „Experten-Quartett“ folgender Wirkstoffe: Pflanzliche Stammzellen der Alpenkugelblume, Afrikanischer Rindenextrakt, natürliches Saponin aus Oliven und einem Säurederivat aus Rizinusöl. Die Stammzellen der Alpenkugelblume sorgen für den Abbau der geschädigten Proteine in der Haut und entgiften diese. Mit Hilfe des Afrikanischen Rindenextrakts wird die Haut verfeinert und die überschüssige Talgflussproduktion minimiert.
Enantia Chlorantha Extract (Extrakt aus der Rinde afrikanischer Bäume) • Oleanolic Acid (Pflanzliche Säure aus Olivenblättern) • Hamamelis Virginia (with Hazel) Extrakt • Kaolin • Zink Oxide
Je nach Bedarf, jedoch mindestens einmal pro Woche auf die gereinigte Haut auftragen. 15 bis 20 Minuten einwirken lassen und mit lauwarmem Wasser entfernen.
Kaolin, Aqua (Water), Glycerin, Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Leaf Water, Cetearyl Alcohol, Alcohol, Zinc Oxide, Ceteareth-30, Coco-Betaine, Butylene Glycol, Magnesium Carbonate, Phenoxyethanol, Levulinic Acid, Lactic Acid, Glyceryl Caprylate, p-Anisic Acid, Sodium Levulinate, Parfum (Fragrance), Chlorphenesin, Enantia Chlorantha Bark Extract, Ethylhexylglycerin, Citric Acid, Oleanolic Acid
Art.-Nr.
7755654
EAN
7640143812431
Lagerbestand:
1
Anmelden
